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硅靶材专用硅粉

溅射靶材是指通过真空镀膜设备溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。根据生产方法可以分为粉末靶、熔炼靶和喷涂靶;按照形状可以分为平面靶材和管状靶材。高纯硅作为粉末靶和喷涂硅靶材的原料,其纯度越高越有助于靶材获得均匀的晶体结构保证靶材的性能,同时提高硅原料利用率。硅含量:99.9%-99.999%(3-5N)粒度:0-3000目。

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