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高级金属合金专用硅粉(粒、块)

硅含量99%(2N),99.9%(3N),99.99%(4N)的高纯硅粉,极低的氧、碳、磷、硫和金属杂质含量,可满足对杂质要求很高的工业过程的需要,填补了高纯工业硅粉领域国内空白。产品指标高于ELKEM的Silicon99Refined和Silgrain®HQ。用于航空\汽车铝合金、钛合金、铜合金、高性能氮化硅、碳化硅陶瓷、电子工业。

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硅靶材专用硅粉

溅射靶材是指通过真空镀膜设备溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。根据生产方法可以分为粉末靶、熔炼靶和喷涂靶;按照形状可以分为平面靶材和管状靶材。高纯硅作为粉末靶和喷涂硅靶材的原料,其纯度越高越有助于靶材获得均匀的晶体结构保证靶材的性能,同时提高硅原料利用率。硅含量:99.9%-99.999%(3-5N)粒度:0-3000目。

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太阳能氮化硅专用硅粉

太阳能硅的铸锭采用的装料容器通常为石英坩埚。在1500度高温下硅液与坩埚之间长时间接触,为便于脱模获得纯净、理想的硅晶体,需在石英坩埚内壁喷涂一层保护涂层。该保护层需与坩埚之间具有良好的附着性,并且耐高温,不对硅熔体造成污染。采用的涂层材料的主要成分为高纯氮化硅。福州胜澳能源材料科技有限公司专门针对该领域开发了生产高纯氮化硅粉的基础原料高纯硅粉(≥5N)。采用该原料可生产出符合太阳能行业要求的产品。

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